通常情况,此类改性剂如抗静电剂有一个共通特性——拥有可配位基团或离子如Li+、Na+、K+等。
配位基团或离子如Li+、Na+、K+等通常会与胶水中某些基团如醚基发生配位作用,如图所示。
这些配位结构再结合阴离子,与之建立静电缔合关系,将胶水树脂分子之间通过电荷位点间相互吸引至更加牢固结合到一起,从而引起胶水粘度显著增加,对于此类情况,在不改变改性剂如抗静电剂的前提下,如何改善和解决呢?
显然,发现相关作用机理后,如何找出对应破解方法就额可以不再盲目。
ILSML®团队在开发光学透明抗静电剂的时候就有注意到这一点,如何在不改变原有抗静电剂抗静电性能基础上,解决其引起的树脂粘度变高的问题,提供了相应的解决方案和对应产品II2110、II2120等。
ILSML®光学透明抗静电剂II2110、II2120等产品,可以单独使用,也可以用于解决因上述作用机理导致的胶粘度增加的问题。
一般情况,ILSML®光学透明抗静电剂II2110、II2120等与诱发胶粘度增加的抗静电剂可以按照1:5~2:5重量比搭配使用,通过反向机理选择性解除不良租用,即可将改性胶的粘度控制回到正常水准。