ILSML®光学透明抗静电剂AI4400

AI4400是与乙酸乙酯、乙醇、甲苯等互溶的高效含氟光学透明的抗静电剂，可用于丙烯酸、聚氨酯等压敏胶静电改性达109Ω/sq。

组成 ：含氟烃取代离子复合物

有效含量：≥99 %

水分： <0.1%

氟含量：>10%

外观：无色至略黄液体或结晶固体

ILSML ®团队专注高端光学透明抗静电剂研发、生产，以不改变透明性和较低添加量为开发目标，使胶层及其组件改性达到长效至半永久透明防静电， 鉴于该领域无宽适用面产品的现状，为满足用户不同场景对不同抗静电性能的需求，通过机理研究结合实验验证的开发模式，持续不断推出新品和解 决方案，如 5~8 次方、UV 适用、热固适用、弱极性相容、无卤/氟、低撕膜电压等，在保护膜、离型膜、偏光片等光学膜领域得到充分验证与使用， 并持续逐步丰富和更新专用产品品类来提升产品适配宽度与成功率。