铟是显示技术、通信与新能源领域的关键原料，供应主要来自伴生矿冶炼与含铟废物回收。废弃 LCD 面板中的 ITO 导电薄膜是重要的铟二次资源，随着电子产品迭代加速，大量废面板亟待资源化处理。由于 ITO 附着于玻璃基底且铟锡共存，回收工艺需兼顾铟的高效溶出、抑制杂质共浸出，并尽量保留玻璃基底的结构完整性。

传统无机酸浸出法提取铟易造成设备腐蚀、酸性废液污染，且锡的共浸出会增加后续分离成本。酸性离子液体既可提供溶解金属氧化物的质子，又可通过阴阳离子设计调控介质性能，但在废 LCD 面板铟回收领域，其适用条件、浸出选择性与再生性能仍缺乏系统研究。

近日，兰州大学崔佳莹团队采用 1 - 丁基 - 3 - 甲基咪唑硫酸氢盐水溶液体系浸出废 LCD 面板中的铟，通过工艺优化、光谱表征与动力学分析，明确了该体系的浸出性能与作用机制。

研究确定最优浸出条件为：离子液体体积分数 5%、ITO 玻璃粉投加量 5 g・L⁻¹、反应温度 70 ℃、反应时间 180 min。在 5%~20% 的离子液体体积分数范围内，铟表观浸出率均保持 80% 以上；当体积分数升至 25% 时，体系黏度升高导致固液传质受限，浸出率降至 65.9%。

光谱表征结果显示，浸出前后离子液体的主体结构保持稳定，玻璃基底的硅氧骨架未发生明显破坏；X 射线光电子能谱证实，浸出后残渣表面的铟组分已被有效去除。

动力学研究表明，铟的浸出过程符合缩核模型：浸出初期受内扩散与化学反应共同控制，表观活化能为 30.53 kJ・mol⁻¹；浸出后期主要受产物层内扩散控制，表观活化能为 17.25 kJ・mol⁻¹。

基于实验结果，团队提出浸出机制：离子液体释放的 H⁺会促进 In-O-H 中间体形成，进而断裂 In-O 键，使铟从固相转移至溶液中。该体系铟锡分离效果优异，锡主要以二氧化锡形式留存于残渣中，浸出率仅为 4.63%。

循环再生实验显示，该浸出介质第五次使用时，铟浸出率仍可达 84%；经沉淀除杂、pH 调节再生处理后，浸出率可恢复至 94%，具备良好的复用潜力。

综上，低浓度酸性离子液体体系可高效选择性浸出废 LCD 面板中的铟，兼具可再生利用的优势，同时能保留玻璃基底的结构完整性，为电子废物中铟的绿色回收提供了可行方案。